Plasma Physics and Physics of Thin Films (P0533D110035)

Studijní program: Plasma Physics and Physics of Thin Films (P0533D110035)

Typ studia: Doktorské

Forma studia: Prezenční, Kombinované

Délka studia: 4

Zaměření: ostatní technické, fyzika, přírodovědné obory, technické a IT obory

Náplň programu/oboru:
Doktorské studium je zaměřeno na řešení základních problémů z oblasti fyziky výbojového plazmatu, plazmochemie, fyziky a inženýrství povrchů a fyziky tenkých vrstev, které vznikají při vytváření a výzkumu nové generace tenkovrstvých materiálů s unikátními fyzikálními a funkčními vlastnostmi. Tyto materiály (zejména amorfní a nanostrukturní nitridy a oxidy) jsou připravovány nekonvenčními procesy ve výbojovém plazmatu různého typu. Jedná se především o magnetronové a mikrovlnné výboje pracující v kontinuálním nebo pulzním režimu.Studenti provádí pod vedením svého školitele intenzivní vědecký výzkum v laboratořích katedry fyziky nebo na jiném tuzemském či zahraničním pracovišti, s kterým katedra fyziky spolupracuje. Během prvních dvou let doktorského studia skládá zkoušky z tří povinných odborných předmětů: Fyzika výbojového plazmatu (1.roč.), Fyzika povrchových vrstev a jejich charakterizace a Plazmové technologie pro depozici vrstev a modifikaci povrchů (2.roč.) a z angličtiny. Tyto tři odborné předměty určují obsah státní doktorské zkoušky na konci druhého ročníku studia.

Cizí jazyk: Angličtina

Akreditace: ANO

Platnost akreditace do: 13.3.2030